中国有没有必要举全国之力，去造一台光刻机？

芯片研发的各个环节环环相扣。要想生产芯片，光刻机的问题是必须克服的一大困难。台积电之所以在全球占支配地位，跟荷兰光刻机制造商ASML的深度合作也很有关系。文章提到，ASML现有的光刻机技术就是台积电的全世界邀约之下、美日欧大企业全部拒绝的情况下，ASML铤而走险答应的——两家颇有远见的企业彼此的信任和肯定，成就了他们今天的市场占比。就目前来说，中国还尚未涌现这样颇具野心、沉心研发的企业，成熟的科研环境也尚未成型，但是好消息也在向我们招手：ASML与中芯国际签订协议，将出售一批EUV光刻机给中国，燃眉之急将解，中国的芯片“卡脖子”现象有望缓解。此外，中科院长春光电所目前在研国产最好的EUV光刻机，成功后将用于7nm及以下制程，其分化出来的上海光机所在EUV核心的液滴锡靶领域取得了较大突破。尽管饱受各种制裁和技术困难，国产光刻机还是有所希望。

关于光刻机的故事：早在1997年，英特尔看到挑战193nm的巨大难度，决心集合人类精英一起愚公移山，有点流浪地球的意思。他们说服了美国对高科技最开明的克林顿内阁，以公司形式发起了EUV LLC这样的一个合作组织。

这个组织由英特尔和美国能源部牵头，集合了当时还如日中天的摩托罗拉以及AMD，以及享有盛誉的美国三大国家实验室：劳伦斯利弗莫尔实验室，劳伦斯伯克利实验室和桑迪亚国家实验室，投资两亿美元集合几百位顶级科学家，从理论上验证EUV可能存在的技术问题。

英特尔还力邀ASML和尼康加入EUV LLC，因为当时美国光刻已经不太行了。但此举受到美国政府的阻挠，因为他们舍不得让外国公司分享美国最前沿技术。

最终结果是尼康被排除在外，ASML做了一堆对美国贡献的许诺后被允许加入。另外一家例外的非美国公司是英飞凌，它被允许和Micron一起加入EUV LLC。

无论如何，需要强调的是，在半导体制造中，光刻只是其中的一个环节，另外还有无数先进科技用于前后道工艺。

正是因为科学家们不屈不挠的努力，才使得我们在这个一切由芯片驱动的伟大时代，享受着各种手机、电脑、家电、汽车飞机和互联网带给我们的精彩生活。

毛主席说过，别人有的我们一定也要有！
举全国之力造光刻机，是我们的必然选择！